กระบวนการผลิตฟิล์มแสงกล้องจุลทรรศน์โพลาไรซ์
เมื่อสังเกตด้วยกล้องจุลทรรศน์โพลาไรซ์ตัวอย่างควรทำลงในแผ่นขัดที่ผ่านการรับรองหรือแผ่นขัดเงาตัวย่อเป็นแผ่นเบา กระบวนการผลิตมีดังนี้:
(1) การเลือกตัวอย่าง: เลือกตัวอย่างตัวอย่างที่เป็นตัวแทนตามวัตถุประสงค์การสังเกตและข้อกำหนดการวิเคราะห์ตัดเป็นบล็อกตัวอย่าง 10 × 10 × 10 มม. และทำความสะอาดให้ละเอียด
(2) การฝังหรือติดกาว: สำหรับตัวอย่างที่เล็กกว่าจำเป็นต้องมีการฝัง ตัวอย่างที่มีความพรุนสูงหรือรูพรุนควรถูกชุบด้วยกาวก่อน
(3) การบดหยาบ: เลือกด้านที่ค่อนข้างแบนของตัวอย่างวางไว้บนเครื่องบดและใช้ทรายหยาบเพื่อบดพื้นผิวแบนเรียบเป็นระเบียบลักษณะและลบขอบและมุม
(4) การบดละเอียด: บดด้วยทรายละเอียดจนกว่าร่องรอยทั้งหมดที่เหลือจากการบดหยาบจะถูกลบออก
(5) การบดละเอียด: ใช้ทรายที่ดีกว่าเพื่อบดจนพื้นผิวแบนและวางไว้ในที่สว่างเพื่อสังเกตการสะท้อนแสงจาง ๆ
(6) การขัด: วางตัวอย่างบนเครื่องขัดและเพิ่มการบด (ผงขัด) สำหรับการขัดจนพื้นผิวของตัวอย่างมีความสว่างและไม่มีรอยขีดข่วนที่เห็นได้ชัดภายใต้กล้องจุลทรรศน์สะท้อนแสง
(7) การทำเครื่องหมาย: ตัวอย่างพื้นดินควรมีการกำหนดหมายเลขติดป้ายและแหล่งที่มาและชื่อควรระบุไว้อย่างชัดเจน
(8) การกัดเซาะ: เลือกวิธีการกัดกร่อนที่เหมาะสมและเงื่อนไขตามวัตถุประสงค์ในการสังเกตและข้อกำหนดการวิเคราะห์และกัดกร่อนตัวอย่าง
เมื่อทำการวิเคราะห์โครงสร้างจุลภาคภายใต้แสงที่ส่งและสะท้อนแสงตัวอย่างควรทำเป็นฟิล์มบางแม้กระทั่งฟิล์มบาง ๆ<0.02mm). When preparing a thin film, first grind the sample into a thin film with a thickness of 0.03mm without adding a cover glass, and then polish the surface of the finely ground thin film on a polishing machine.
